硅电容器WLSC系列

可薄至100μm的引线键合用上下电极硅电容器

WLSC系列产品(100μm厚)适用于无线通信(例如5G)、雷达、数据播放系统之类的RF大功率用途。WLSC电容器适用于DC去耦、匹配电路、高次谐波/噪声滤除功能等。依靠村田的半导体(硅)技术开发的独特的集成无源器件和设备(Integrated Passive Devices),可以解决此类需要高可靠性的用途的各种问题。利用半导体工艺,开发极深沟槽结构的硅电容器,静电容量密度高达6nF/mm2 to 250nF/mm2(支持的击穿电压为150V to 11V)。本公司的半导体(硅)技术,依靠可以生成超过900℃的高温退火的高纯度氧化膜,完全控制的生产工艺,与其他的电容器技术相比,可靠性最高达到后者的10倍。依靠这项技术,使DC电压与整个工作温度范围的静电容量的稳定性极为优秀。并且,因为硅在本质上电介质吸收很小,压电效应也很小,或者几乎没有,所以也没有存储效应。以硅为基础的技术符合RoHS标准。

* Murata Integrated Passive Solutions S.A.(旧IPDiA)

各产品的装配图请见此处

特点

  • 100μm的极薄型
  • 低漏电流
  • 高稳定性(温度、电压)
  • 老化后静电容量也极少下降。
  • 支持标准的引线键合封装(球和楔)

用途

  • 雷达、基础设施无线通信、数据播放等要求严格的所有用途
  • 焊盘完全平坦,因此标准的引线键合(在上下面镀金)比MLCC容易
  • 去耦、DC噪声、高次谐波滤除、匹配电路(例如GaN功率放大器、LDMOS)
  • 高可靠性用途
  • 要求小型化和薄型的用途(100μm)
  • 与单层陶瓷电容器、金属氧化膜半导体完全兼容

WLSC系列规格

参数
静电容量范围 47pF to 22nF(*)
静电容量容差 ±15%(*)
安装方法 引线键合(上下电极)(*4)
工作温度范围 -55°C to 150°C
保管温度范围 -70°C to 165°C(*2)
温度系数 +60ppm/K
击穿电压 (BV) 11V, 30V, 50V, 150V(*)(*5)
静电容量变化 0.02%/V (from 0 to RVDC)
等效串联电感 (ESL) 代表值50pH@SRF (*3)
等效串联电阻 (ESR) 最大50mΩ (*3)
绝缘电阻 100nF的商品
10GΩ(25℃,施加RVDC,120秒后)
老化 微小,<0.001%/1000h
电容器厚度 100µm(*)
  • (*) 也能根据客户要求提供其他的规格值 (*2)包装材料除外
  • (*3)引线键合、嵌入
  • (*4)有关各产品的安装方法,请查看装配图
  • (*5)请查看此处的FAQ以了解击穿电压和额定电压之间的关系。

WLSC系列

关于耐压和额定电压之间的关系,请查看此处的FAQ。
请查看此处的FAQ以了解如何理解产品名称。

装配图

Assembly Note Silicon Capacitor_Assembly by wirebond (PDF: 2.0 MB)

UPDATE
2023/12/1