FETのバイアスラインに接続されたコンデンサと異なる容量のコンデンサを接続すると反共振が生じ、フィルタ特性が悪い周波数領域が発生します。そこで、反共振を抑えるために、一般的にはキャパシタとともに、ダンピング用の抵抗がしばしば用いられます。この場合、接続部品が増えるため、接続用のワイヤーの数も増えます。これではバイアスラインの寄生インダクタンス成分が大きくなるため、フィルタの高周波特性はあまりよくありません。
そこで、ムラタのIPD(Integrated Passive Device)技術を用いて、キャパシタと抵抗を一体化した製品を標準ラインアップとしてご用意しました。
これにより、ワイヤーの寄生インダクタンス成分をなくし、より高周波領域でのフィルタ特性を向上させます。
シリコンIPDの10nF+0.5Ω品を使用した場合、同性能でIPD化されてないものと比較すると450MHzにおいて-5dBのインピーダンス低下につながっています。
R+C シリコンIPDの標準スペックは以下です。
4.7nF+0.5Ω 厚さ100um/250um
10nF+0.5Ω 厚さ100um/250um の4種類
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