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シリコンキャパシタ(シリコンコンデンサ)EMSCシリーズ

100μm対応 ワイヤボンディング/埋め込み用シリコンキャパシタ

ムラタの半導体(シリコン)技術による、独自の集積受動部品/デバイス(Integrated Passive Devices)により、このような高信頼性が要求される用途での様々な問題を解決できます。このワイヤボンディングや埋め込み対応の薄型シリコンキャパシタは100μm(ご要望により80μmまで対応可能)の厚さで、最高のデカップリング特性を求めている設計者にとって埋め込み用途に最適のソリューションです。
EMSCはラミネート基板パッケージ、リジッド/フレキシブルPCB、FR4、セラミック、ガラス、リードフレームまたはホイルのプラットフォームに最適化されています。シリコンキャパシタテクノロジーは、キャパシタ集積機能(最高250nF / mm2)を提供、現有のソリューションに比べ小型化が可能です。ムラタのテクノロジーは、タンタルやMLCCなどの代替となるキャパシタテクノロジーと比較して最大で10倍の信頼性を特徴としており、クラッキング現象が発生しません。半導体(シリコン)技術は、全動作電圧および温度範囲で極めて安定な静電容量値と、高い絶縁抵抗を安定に維持します。このシリコンをベースとする技術はRoHSに対応しており、鉛フリーのリフロー実装が可能です。

Murata Integrated Passive Solutions S.A.(旧IPDiA)

各製品の実装ガイドはこちら

特徴

  • 100μmの超薄型(ご要望により80μmも可能)
  • 高安定性(温度、電圧、エージング)
  • 低いESLとESR
  • 低リーク電流
  • 高信頼性
  • 埋め込みまたはワイヤボンディングソリューション

(詳細は当社の実装ガイドを参照ください)

用途

  • 供給デカップリング/能動素子のフィルタリング
  • 高信頼性用途
  • バッテリを使用する機器
  • 体積が制限されている用途

EMSCシリーズ仕様

パラメータ
静電容量範囲 390pF~1µF
静電容量許容差 ±15% (*)
実装方法 ワイヤボンディング/埋め込み(水平電極)(*4)
動作温度範囲 −55°C~150°C
保管温度範囲 −70°C~165°C (*2)
温度係数 +60ppm/K
絶縁破壊電圧 (BV) 11VDC、30VDC (*5)
RVDCに対する静電容量変動 0.1%/V (0~RVDC)
絶縁抵抗 100nFの商品の場合
100GΩ(25°Cで3V印加し120秒後)
エージング 微小、< 0.001% / 1000h
キャパシタ厚さ 100µm (*3)
  • (*)ご要望に応じて他の仕様値も対応可能
  • (*2)梱包材を除く
  • (*3)ご要望により高さ80μmも可能
  • (*4)各製品の実装方法につきましては実装ガイドをご確認ください。
  • (*5)絶縁破壊電圧と推奨使用電圧の関係についてはこちらのFAQをご確認ください。

EMSCシリーズ

絶縁破壊電圧と推奨使用電圧の関係についてはこちらのFAQをご確認ください。
品名の読み方についてはこちらのFAQをご確認ください。

実装ガイド

Assembly Note Silicon Capacitor_Assembly by wirebond (PDF: 2.0 MB)

UPDATE
2023/12/01